在集成电路产业中，反向工程的方法已成为世界各国厂商普遍采用的了解他人产品信息，进而开发出兼容或更为先进产品的一种手段。这对产业发展和技术进步是十分必要的，如果实施反向工程，不是单纯的为复制他人布图设计以便仿制他人产品，而是通过解剖、分析，了解他人产品的功能、参数特征，以便设计出与之兼容的产品，或者在他人产品的基础上做进一步改进，从而制造出在技术上更加先进的集成电路，则应当认为是合理合法的。
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什么是反向工程条款？《保护条例》第23条规定：下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬：(一)为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的；(二)在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的。这就是集成电路布图设计保护中的“反向工程”条款。
事实上，允许在一定条件下实施反向工程的规定，更类似于专利法中关于改进发明的规定。作为工业产权保护对象之一的专利是对全社会公开的。专利法设置了专门的公开渠道，是为了便于他人在现有技术的基础上完成更新更优的发明创造。
如果也像专利法一样规定专门的公开程序将布图设计公之于世，权利人将难以控制其布图设计。权利人不仅会在产品的成本方面丧失优势，甚至会连抢占市场的时间优势都丧失殆尽。
因此，在布图设计保护制度中不宜专门设立公开渠道。如图2所示为国家知识产权局查询集成电路布图设计公告的唯一界面，该界面不提供针对具体的布图设计登记号、布图设计名称、权利人姓名或名称、布图设计申请日等检索布图设计的选项，仅提供每期集成电路公告的内容。
保护布图设计的终极目的毕竟还是为了促进技术进步，因此还应当照顾公共利益，以便他人在一定程度上可以借鉴现有的先进技术。在限制条件下的反向工程便是起到与专利法中公开程序等效的作用，这是对公众利益的一个补偿。知识产权法应当允许有关当事人为分析、研究集成电路的技术、特性目的而复制他人布图设计的行为，但并不允许将复制的布图设计直接再投入集成电路的生产。这是考虑到现有技术发展水平、平衡权利人和公众利益的结果。
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