我们都知道，我国的半导体和芯片行业一直受到美国的压制。电子级硫酸在芯片制造工艺中是用量z大的电子化学品，在大规模集成电路、LED显示器、平板显示器等电子工业中有着大量的应用。因此电子级硫酸也属于需要突破的“卡脖子”产品中的一员。我国之前电子级硫酸完全依赖与巴斯夫等外企的进口，电子级硫酸的要求比普通硫酸的要求高很多，它的金属离子必须达到PPT级别，对杂质含量、纯度要求极高，国内企业多是以工业硫酸生产为主。
经过几年的研究，我国电子级硫酸的品质已经达到了国内领先、世界一流的水平。作为集成电路制造业、封装测试业以及整机装配业原料供应的上游行业，高规格的电子级硫酸自然供不应求，但是想要抢占国内外市场，就必须以标准为导向，建立起完善的规则制度。因此我们就来给大家介绍一下电子级硫酸的化工原料检测标准。
为了技能满足国内生产企业及使用企业的生产、使用需求，可以将电子级硫酸产品按纯度划分为五个等级，分别为EL、VL、UL、SL和XL。在具体的指标上，对硫酸含量、外观、色度、不同粒径颗粒的个数、氯化物、硝酸盐、磷酸盐、铵盐、还原高锰酸钾物质及金属杂质等共 35 个项目有具体的要求。
一般来说，如果电子级硫酸用于电子硅晶片的制造过程，则需要对其中的金属和非金属杂质阳离子进行严格的控制，在进行化工原料检测时要尤为注意。因为硅圆片上存在的不溶性固体颗粒或金属离子可能导致电路之间导电，引起短路。如果是钠、钙等碱金属杂质会融进氧化膜中，导致耐绝缘电压下降，当硅圆片表面附着有铜、铁、铬、银等重金属杂质时，会使P-N结耐电压降低，影响大规模集成电路电性能，硼、磷、砷等杂质离子会影响扩散剂的扩散效果，尘埃颗粒会造成光刻缺陷，氧化层不平整，影响制版质量和等离子蚀刻工艺。因此，新标准对各种金属和非金属杂质阳离子质量分数都做了明确要求。
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